成果信息

本项目利用磁控溅射技术成功实现微晶硅薄膜的制备是一项重大突破，从根本上克服了现有技术的缺点，具有绿色、高效、简单等优点。硅基薄膜材料在现代半导体工业中有着广泛的应用，例如在液晶显示器、微电子器件、电脑存储元件以及太阳电池等领域，硅基薄膜材料都发挥着至关重要的作用。尤其在被人们称为“绿色”能源的太阳电池领域，硅基薄膜材料有着无可限量的应用前景，基于微晶硅薄膜材料为基础的新一代硅基太阳电池是现今全世界的研究热点，被人们寄予了厚望。)

背景介绍

目前在工业上广泛采用的CVD技术制备硅膜，工艺和设备复杂，成本高，且在安全和环保环节上投入巨大。我们在国内首创出了微晶硅薄膜的PVD法沉积工艺，在温度低于300度的条件下，在单晶硅片和普通玻璃片上制备出不同结晶度的微晶硅薄膜和纳米结构硅薄膜，可以得到具有高度<111>方向取向生长的微晶硅薄膜，并实现了控制工艺的稳定性和可重复性。)

应用前景

太阳能薄膜电池的传统制造过程中会产生大量污染及耗费大量能源。本项目提供的技术属于国内独有的前沿技术，是太阳能薄膜电池生产所最求的新一代技术，具有重大应用价值，尤其在强调绿色制造的今天。)