成果信息

本技术采用全自动沉积系统，可以根据设定程序实现自动交替多循环沉积，克服了手动沉积过程溶液交换、样品氧化以及其它人为因素造成的诸多问题。可用于生长IIB－VIA、IIIA－VA、IIIA－VIA、IVA－VIA和VA－VIA族等各种半导体纳米超晶格薄膜材料，应用极为广泛。技术可实行对沉积过程每一步实时监控，配置有Cview绘图软件，能对数据文件进行多种坐标显示，具有图形局部放大、曲线平滑、数据修正等功能，另外它还能进行线性拟合、Tafel拟合等多种计算。 本项目研制开发了的电化学原子层外延自动沉积系统目前在国内仅此一台，全世界也仅有三台，另两台分别在美国的University of Georgia和意大利的Universita` di Firenze，本技术处于国内领先水平。同时可作为高校和科研院所从事半导体纳米超晶格薄膜研究，在微电子、光电子和生物芯片等领域具有广泛的应用前景；还可用于高校本科电化学实验教学，市场应用极为广泛。 )

背景介绍

电化学具有室温沉积、工艺设备简单等优点，但常规的电化学共沉积方法往往得不到纳米超晶格薄膜材料。原子层外延可以精确控制薄膜生长，但工艺复杂，设备昂贵，原材料成本高，且需要高温高真空条件。高温将导致薄膜界面元素互扩散，使薄膜界面混淆，降低其性能。本项目将电化学与原子层外延相结合，利用欠电位原理，在室温下实现了对薄膜沉积的原子层级控制。)

应用前景

利用本技术生产的半导体纳米薄膜质量高，通过对薄膜原子层级进行控制，使得沉积的薄膜具有优良的性能，由于是室温沉积并与当前微电子和光电子行业的电化学沉积有效兼容，使之具有很好的经济效益和社会效益。)