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一种太阳光谱吸收膜层设计方法


行业类别:新材料高技术服务
所处阶段:小试阶段
持有单位:哈尔滨工业大学
转让方式:技术转让,技术许可,
转让价格:面议

成果信息

太阳光谱吸收膜层设计方法。本发明通过确定预选材料的介电函数;复合不同配比材料的介电函数,计算得到介电函数曲线,筛选满足要求的复合材料配比;构建膜层结构模型,确定膜层结构模型的物理数据;针对单一物理变量进行改变和优化,选取复合要求的或者最优的结构模型;根据筛选的复合材料配比和最优结构模型。选择、制订和优化膜层制备工艺。本发明对非磁性的高太阳光谱吸收率膜层的制备工艺进行设计与优化,可以显著缩小实验过程中部分参数的选取范围,减少错误实验所造成的的人物力损耗,更加快速高效的确定最优工艺,从而提高膜层开发和生产的效率。)

背景介绍

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应用前景

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